-
Productes químics d'ús diari (perfums, cosmètics, cura personal)
-
Intermediaris farmacèutics
-
Aromatitzant d'aliments
-
productes químics per a la construcció
Incloent-hiBIT 85%, BKB 95%, Bronopol, Glutaraldehid 50%, Glutaraldehid 25%, PCMX, IPBC 98%, MIT i CMIT 14, TCS, DDAB 80%, PHMB 95%, PHMB 98%, TCC, DDAC 80%, 3, 5-Xilenol/MX99%, ÒXID DE MESITIL (MO).
-
Tractament d'Aigües: Tèxtils i Paper
Incloent-hiBIT 85%, BKB 95%, Bronopol, BKC 50%,BKC 80%,DBNPA 20%, DDAB 80%, DDAC 80%, IPBC 98%, PHMB 20%, PHMB 95%, PHMB 98%, Glutaraldehid 50%, Glutaraldehid 25%, MIT i CMIT 14, DCMX, PCMX, PCMC, TCC, TCS, 3, 5-Xilenol/MX99%, ÒXID DE MESITIL (MO), ISÒFORONA (IPHO), Clorur de dimetil dial·lil amoni (DADMAC).
-
Pintures, recobriments i guixos
Incloent-hiGlutaraldehid 50%,Glutaraldehid 25%, PCMX, IPBC 98%, MIT i CMIT 14, PCMC, PVP-K90DDAB 80%, DCMX, PHMB 20%, PHMB 95%, PHMB 98%, Ricinoleat de zinc, BIT 85%, 5-Xilenol/MX99%, ÒXID DE MESITIL (MO), ISÒFORONA (IPHO), Clorur de cetiltrimetilamoni (CTAC)Clorur de dimetil dial·lil amoni (DADMAC)
-
Fluids per a la metal·lúrgia i el cuir
Incloent-hiBIT 85%, BKB 95%, Bronopol, Glutaraldehid 50%, Glutaraldehid 25%, PCMX, IPBC 98%, MIT i CMIT 14, PCMC, PHMB 20%, PHMB 95%, PHMB 98%, 3, 5-Xilenol/MX99%, ÒXID DE MESITIL (MO), ISÒFORONA (IPHO).
-
Neteja industrial i institucional
Incloent-hiBIT 10%, BIT 20%, Bronopol, DDAB 80%, DCMX, PCMX, Glutaraldehid 50%, PVP-K90, PVP-I, MIT i CMIT 1.5, Isopropilmetilfenol (IPMP).
-
Cura personal i bellesa
Incloent-hiBIT 10%, BIT 20%, PHMB 20%, DDAB 80%, DDAC 80%, PCMX, TCC, TCS, PVP-K90, Lanolina, Lanolina-PEG75, MIT i CMIT 1.5, PEG-120, PEG-120T, TISE-120,Guar 1603C, Guar 1330 i 1430, Guar 3150 i 3151, D-Pantenol 75%, D-Pantenol 98%, CHG 20%, Piroctona olamina, Climbazol, Clorfenesina, Alantoïna, 1,3-propanodiol, Imidazolidinil urea, DMDMH 50%, DMDMH 95%, Diazolidinilurea, Hidroxiacetofenona, Àcid caprilhidroxàmic, Fenoxietanol 99%.
-
Cura i neteja de la llar
Incloent-hiBIT 10%, BIT 20%, Bronopol, BKC 50%, BKC 80%, DEET, DDAB 80%, DDAC 80%, DCMX, Glutaraldehid 50%, MIT i CMIT 1.5, PCMX, TCC, TCS, PCMC, PHMB 20%, PVP-K90, Isopropilmetilfenol (IPMP), Clorur de cetiltrimetilamoni (CTAC).